中科院科研背景提升项目：模板光刻法制备二维材料纳米器件
　　项目简介

　　模板光刻(Stencil lithography)，是一种突破性的器件制备技术，其特点就是避免传统器件制备技术中光刻的抗蚀剂涂覆、剥离等工艺步骤，特别适合对抗蚀剂、水和溶剂等敏感的样品进行器件加工。比如，基于石墨烯材料的电子器件，由于石墨烯具有比硅高10倍的载流子迁移率，具有非常优越的性能。但是传统光刻工艺不可避免地在石墨烯表面残留抗蚀剂分子，从而影响了载流子的迁移，造成实验测得的载流子迁移率远远低于理论值。本项目旨在为石墨烯、黑磷和拓扑绝缘体等新材料开发一种全新的器件制备技术，通过一系列微纳加工技术，制备出直接用于环境敏感材料的器件制备模板，并且应用于石墨烯等二维材料。通过本项目的开展，可以学习的微纳技术，接触物理科学与技术的前沿。

　　此实习项目适合申请专业方向为：拟于凝聚态物理、微电子、纳米和新材料等领域从事研究的学生。学生将与中科院具有纳米器件、纳米材料与微纳米加工技术与设备操作丰富经验的研究员、博士一同学习，了解纳米器件的制备与表征方法。针对选定的课题进行科研实践，通过实际项目的参与，提高学生的动手能力；可以旁听本领域国际前沿学术报告，近距离接触学者。实习结束后，导师将根据学生表现，出具推荐信。
　　项目内容
　　本项目将介绍微纳米加工技术发展趋势、纳米器件进展，学习基于二维纳米材料的纳米器件的核心—纳米电极的模板光刻制造工艺，以及二维层状纳米材料剥离及分散稳定的方法。实习过程中将接触到前沿的领域、先进的技术，并利用先进光刻系统、反应离子刻蚀系统、薄膜蒸镀系统和扫描电子显微镜等设备制备并表征所获得的器件的结构和性能。通过四周时间的实习，循序渐进地学习纳米器件制作的基本原理、熟悉相关仪器设备的操作、终实现在二维纳米材料上原位制备纳米器件。
　　项目特色
　　相对于新材料、新器件和新技术的高速发展，当前的高校师生所接触到的工具以及参考书大多比较陈旧，造成了高校毕业生知识结构、动手能力与解决实际问题的能力均无法满足前沿领域探索的需求。本项目将模板光刻技术与二维材料纳米器件的制备相结合，把的技术发展状态呈现给学员，给你对二维纳米器件制备技术的认知。
　　招生对象和要求
　　大二以上本科生和部分高中生，计划申请物理学、子材料关专业、材料工程相关专业学员所设计，要求具备基础化学知识。为了更好的完成科研项目，项目组会以笔试和面试的形式对学生进行筛选。
　　时间安排共四周
　　时间内容

　　周

      内容：

      1）通过查阅文献和相关书籍，了解二维材料器件制备现状，学习纳米器件制备的技术与工艺

　　2）出具学习报告与导师讨论具体细节，导师补充学习上的不足，以及下周具体学习
　　3）实验室设备介绍学习，为进入实验做准备
　　指导：PPT汇报，学生能够讲述学习过程，疑问解答
　　实验：纳米模板制备

　　第二周

      内容：

      1）二维材料的制备

　　2）二维材料的表征
　　指导：PPT汇报，讲述前两周学习，初步完成论文框架。导师针对论文框架提出指导意见，修改
　　实验：获得二维材料

　　第三周

      内容：

      1）模板光刻工艺研究

　　2）基于二维材料纳米器件的制备
　　指导：根据学生实践成果随时指导，方法与错误纠正
　　实验：基于二维材料纳米器件的加工实验

　　第四周

      内容：

       1）二维纳米器件的表征

　　2）实验结果分析
　　指导：面对面指导学生技术实验。尽可能完成论文